Programmieren C# 2


Die grundlegenden Elemente der objekt-orientierten Programmiersprache sind bekannt. Das Vertrauen in die neue Programmierplattform ist hergestellt. Die Programmierkenntnisse werden spezifisch ausgebaut.

Inhalte
  • Datenbankprogrammierung mit Entity Framework und ADO.NET
  • Einführung in LINQ (Language Integrated Query)
  • Applikationsentwicklung mit WPF (Windows Presentation Foundation)
  • Einführung in Multithreading
  • Best Practices in Softwarearchitekturen mit Microsoft-Technologien
  • Fortgeschrittene Design Pattern wie z.B. MVVM, IoC / Dependency Injection, Testautomation, Repository u.a.

Ziele
  • Sie sind in der Lage mit Hilfe der Programmiersprache C# und der Entwicklungsumgebung Visual Studio.NET fortgeschrittene Softwaremodule zu programmieren.
  • Sie sind in der Lage einzelne Softwaremodule zu einer lauffähigen kleinen Anwendung zu integrieren.
  • Sie verstehen den Einsatzzweck von Design Pattern und können ausgewählte Design Patterns in ihren Softwaremodulen anwenden.
Voraussetzungen

Fortgeschrittene Programmierkenntnisse einer anderen objekt-orientierten Programmiersprache und Vorkenntnisse der Programmiersprache C#, wie z.B. Besuch der Kurse Java 1 – 3 und C# 1.

Hinweis

Für die Übungen wird der Laptop des Studenten vorausgesetzt. Die Entwicklungsumgebung Microsoft Visual Studio Community oder höher muss auf dem Laptop installiert werden und wird von der HFU zur Verfügung gestellt.

Kursunterlagen

Die Unterlagen werden vom Dozenten elektronisch zur Verfügung gestellt.

Selbstlernzeit

20-50% zusätzlich zum Unterricht

Methode

50% Lehrvorträge, 50% Übungen und Fallbeispiele

Prüfung

Das Modul ist erfolgreich abgeschlossen, wenn mind. 75% vom Unterricht besucht ist und die Modulschlussnote mind. 4.0 beträgt. Die Schlussnote wird aus den Noten der Lernzielkontrollen (Erfahrungsnote) und der Note der Modullernzielkontrolle (MLZ), gemäss den Promotionsbestimmungen für Studiengänge der HFU, ermittelt. Wer ein einzelnes Modul erfolgreich abschliesst, erhält ein Zertifikat.